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                                    如何得到所需要的镀膜成分

                                    对研究开发薄膜的技术人员来讲,源(只蒸发源或靶)材料的成分同生成膜成分的关系是一个最重要的问题。一般来说,要求沉积膜的性质长期保持不变,为此,希望能够做出与源的材料成分相同的镀膜成分,或者在膜析出时与特定气体进行反应(反应溅射或反应蒸镀),从而作出稳定性性质的膜。

                                    笼统的说,真空蒸发镀膜和离子镀膜中,坩埚中的镀料(如镀膜铝线、镀膜锡丝等)容易分馏而引起成分的变化,从而沉积膜层的成分也容易发生变化;而在溅射镀膜中,靶材按其本身的成分被溅射出来落到基片上,从而沉积膜层的成分不容易发生变化。

                                    关于这一点,可以将坩埚中的镀料以及靶材想象为食盐水。真空蒸镀和离子镀时,只是水被蒸发,从而坩埚中食盐水的浓度越来越高;而溅射的情况下,包括食盐和水的溶液一起被溅射出来,而且保持原来食盐水的浓度飞落到基片上。

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